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(資料圖片僅供參考)

近年來，受下游應用開發力度不足等因素限制，我國聚異戊二烯裝置開工率較低，導致需求高度依賴進口。原材料供應不足為負性光刻膠行業發展帶來一定挑戰。

光刻膠種類豐富，按照化學反應機理和顯影原理不同，可分為正性光刻膠和負性光刻膠兩類。負性光刻膠又稱光致抗蝕劑、光刻負膠，指在光刻工藝中，經曝光后會形成不可溶物質的光刻膠。負性光刻膠具有對比度高、精度高、使用便捷、感光速度快、附著力好、阻隔效果好等優勢，在顯示器件、半導體等領域應用廣泛。

負性光刻膠產業鏈上游為原材料供應，包括溶劑、增感劑以及感光樹脂等，聚異戊二烯為負性光刻膠生產過程中使用較多的感光樹脂。聚異戊二烯擁有S-順式和S-反式兩種異構體，耐酸堿腐蝕、摩擦系數高、彈性高、伸長率高等為其主要特點。近年來，受下游應用開發力度不足等因素限制，我國聚異戊二烯裝置開工率較低，導致需求高度依賴進口。原材料供應不足為負性光刻膠行業發展帶來一定挑戰。

負性光刻膠產業鏈中游為產品制造，包括聚烴類-雙疊氮類光刻膠、聚肉桂酸酯類光刻膠兩類。聚烴類-雙疊氮類光刻膠又稱環化橡膠系光刻膠，該產品生產難度較大，美國和日本為全球最早掌握其生產技術的國家；聚肉桂酸酯類光刻膠可細分為聚乙烯氧乙基肉桂酸酯光刻膠（OSR光刻膠）以及聚乙烯醇肉桂酸酯（KPR光刻膠），其外觀呈淺黃色透明液體，具有抗蝕性強、分辨率高、感光性好等優勢。

根據新思界產業研究中心發布的《2023-2028年中國負性光刻膠行業市場深度調研及發展前景預測報告》顯示，負性光刻膠產業鏈下游為應用領域，包括顯示器件、半導體等。在顯示器件領域，負性光刻膠可用于生產OLED顯示器、觸摸屏ITO等；在半導體領域，負性光刻膠可用于生產MEMS芯片、微流控芯片等。在下游需求帶動下，負性光刻膠行業景氣度將進一步提高。

全球負性光刻膠市場主要集中于歐美及日本等國，日本東京應化、美國Microchem公司等為全球知名負性光刻膠生產商。我國負性光刻膠市場主要參與者包括彤程新材、晶瑞電材、艾森股份、飛凱材料以及容大感光等。

新思界行業分析人士表示，作為光刻膠細分產品，負性光刻膠在顯示器件及半導體領域擁有廣闊應用前景。但目前，受技術壁壘高、原材料供應不足等因素限制，我國國產負性光刻膠市場占比較低。未來伴隨國家政策支持以及本土企業持續發力，我國負性光刻膠行業發展速度將進一步加快。

原文標題:【聚焦】負性光刻膠可應用于顯示器件、半導體等領域 我國行業發展面臨挑戰

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